近日，韩国光刻胶供应商东进世美肯(Dongjin Semichem)表示，自研产品已通过三星电子EUV光刻胶可靠性测试。这款光刻胶为双方合作研发，打破韩国EUV光刻胶完全依赖海外供应商的局面，最快有望明年上半年向产线批量供应。
对于韩国半导体产业来说，此次EUV光刻胶取得突破是十分振奋人心的。早在2019年，日本出台了一项政策：日本从2019年7月4日开始限制向韩国出口电视、智能手机中OLED显示器部件使用的“氟聚酰亚胺”、半导体制造过程中必须使用的“光刻胶”和“高纯度氟化氢”等3个品种的材料。当时，日本提供的氟聚酰亚胺产量占全球产能的90%，高纯度氟化氢气体产量占全球产能的70%。韩国集成电路产业对日本的依赖度很高，三星电子、LG和SK等厂商所需的大多数氟聚酰亚胺和高纯度氟化氢都是从日本进口。
日本“限韩令”无疑给韩国集成电路材料自主化敲响了警钟。
此次韩国供应商EUV光刻胶取得三星电子验证，是在日本产品几乎占据全球EUV光刻胶市场、韩国产品线相对落后的情况下实现的。这一成功的背后是韩国政府和产业界对发展自主光刻胶产品的支持。三星电子与东进世美肯合作实现EUV光刻胶自研通过验证，也再次验证了产业链上下游合作进行产品研发的可能性。
创道投资咨询总经理步日欣表示，在突破光刻胶这件事情上，不管从政策层面，还是产业层面来看，东进世美肯都不会是唯一一家企业，韩国将会有意识地去培育安全、可控的供应链。
东进世美肯成立于1967年，是韩国首家开发PVC及橡胶发泡剂的公司。3D NAND领域用的KrF光刻胶为其优势业务。当前，东进世美肯已在全球建设有十几家厂房，产品包括光刻胶、剥离液、稀释剂、SMP浆料、发泡剂、蚀刻剂、显影液等。东进世美肯在中国的厂主要生产LCD显示用的电子材料，其客户包括中国显示器大厂京东方。
打破垄断、自主可控，也是我国对集成电路产业建设的期待。
步日欣在接受《中国电子报》记者采访时表示，光刻胶属于芯片制造流程中最核心的材料，光刻胶的质量关系着整个产线产品的良率，一款光刻胶能够进入下游产线，门槛极高。因此下游的晶圆制造厂一般会对光刻胶进行严格的把控，以防止出现“光刻胶污染”问题，影响产线生产和产品良率。
综合来看，光刻胶这一细分领域技术难度高、市场规模有限，而我国企业在光刻胶领域中布局的产品仍多为中端和低端产品。赛迪顾问集成电路产业研究中心总经理滕冉向《中国电子报》记者表示，东进世美肯与三星电子此次合作EUV光刻胶的成功，为我国上下游产业化协同发展提供了启示：芯片制造厂商、应用端都要有意识地为国内产业链企业提供验证机会，要以国产光刻胶产品在生产线上的应用为核心，推进国内材料、制造企业间的合作，实现产线联合研发，破除国产光刻胶的“低端化”困境，由此提高我国集成电路企业竞争力，进而打破国际大厂垄断局面。
关键词： 韩国自研EUV光刻胶取得阶段性进展 经验值得复制 集成电路
