当下，全球正面临着十分严峻的芯片短缺。在这样的国际形势下，最重要的无疑就是光刻机，特别是EUV高端光刻机。但是，目前全球的光刻机贸易基本上都被阿斯麦尔垄断。当然，这也是没办法的事情，毕竟阿斯麦尔有着核心的组装技术和布满全球的产业链。
但是，近年来，由于我国在光刻机方面取得的突破，使阿斯麦尔频频对我国示好，用尽一切办法尽可能加大对我国的布局。但是，我国为了更好地实现独立自主，最近攻破了EUV光刻机的专利壁垒。那么，我国攻破这个专利壁垒，对于我国而言，会产生怎样的影响呢？
阿斯麦尔的布局
众所周知，近年来，阿斯麦尔对于我国的态度可以说是发生了翻天覆地的变化。之前，阿斯麦尔的光刻机总是千金难求，如今，除了EUV光刻机之外，其他类型的光刻机不仅可以向我国进口，甚至还承诺会尽量满足我国的需求。更重要的是，在价钱上，阿斯麦尔还特别降价。
其实，阿斯麦尔的频频示好，可能想要趁着我国国产光刻机还没有落地，抓紧布局我国市场，避免日后被排挤出去。但是，阿斯麦尔这次的布局恐怕要面临泡汤了，因为我国在最近打破了EUV光刻机的专利壁垒。
我国打破光刻机专利壁垒
众所周知，阿斯麦尔在我国，最近两年里申请了三千多项光刻机技术专利。换言之，就是说如果在生产光刻机过程中，使用了阿斯麦尔光刻机的技术，就算造出来了，没有阿斯麦尔的许可一样没用。美国其实就是用这样的专利壁垒，才能涉足阿斯麦尔光刻机的出售。
但是，我国最近很多机构打破了光刻机的专利壁垒。首先就是我国的长春光机所，它突破的是双波长激光共轴输出系统和方法。主要就是通过CO2激光器，同时输出双波长激光。
接着就是中科院，2020年10月7日，中国科学院高能物理研究所成功研发出极紫外光源技术。这项技术主要就是解决目前极紫外光功率和波长无法调整的问题，毕竟如果极紫外光无法调整，那么就会影响到光刻的分辨率，进而影响到芯片的质量。
最后就是四川大学突破了光刻机的光源技术，这种光源可以运用在DUV、EUV等中高端光刻机身上，主要就是保证设备能够稳定高效地产生13.5纳米光源。
以上我国在光刻机领域取得的种种技术突破，其实阿斯麦尔都没有完全掌握，因此，就这样看来，也可以说我国突破了阿斯麦尔的光刻机专利壁垒。那么，在我国打破光刻机专利壁垒的当下，对于我国而言，又会带来哪些影响呢？
打破专利壁垒对我国有什么影响？
首先，为光刻机国产化更进一步
众所周知，光刻机要想实现国产化，那么就必须要突破光刻机的核心技术。但是，仅仅突破还是不够的，由于阿斯麦尔给自己生产的光刻机申请了一堆的专利，如果没有突破阿斯麦尔没有突破或者没完全突破的技术，那么技术突破就没用了。
而我国突破的专利恰恰正是阿斯麦尔没有完全掌握的技术。因为，随着我国突破核心技术，将会使得我国在光刻机国产化的道路上，迈进一大步。
其次，满足我国芯片需求
我国打破了阿斯麦尔的专利壁垒，使阿斯麦尔都主动要将除了EUV光刻机之外的产品降价出口到我国。在目前全球芯片荒的当下，借着我国突破专利壁垒的福，至少能满足我国的芯片需求。
可能有人会说，阿斯麦尔不是只向我国出口中低端光刻机吗？确实没错，但是，当下缺乏的不就是中低端光刻机生产出的中低端芯片吗？
最后，提高我国国际地位。
突破阿斯麦尔光刻机的专利壁垒，这样的科研成就放眼全球可能都没有几个国家或者地区能够做到。但是我国偏偏就做到了。这在一定程度上可以向国际社会证明我国强劲的科研实力。在科技实力成为综合国力重要考量因素的今天，对于提高我国的国际地位，还是很有帮助的。
我国突破阿斯麦尔高端光刻机的技术壁垒，可能很多人会好奇，我国是否有希望实现EUV光刻机国产化呢？
我国有希望实现国产EUV光刻机吗？
首先，EUV光刻机供应链太广太多
其实，我国要想实现EUV光刻机的国产化，至少就目前来看不太可能。众所周知，光刻机虽然是由荷兰阿斯麦尔公司生产的，但是，如果真要较真的话，阿斯麦尔其实也不过就是一个组装厂而言。
其中，EUV光刻机的零件都是需要从全球各地进口的，换言之，阿斯麦尔就是因为有全球光刻机生产链，所以才能垄断光刻机贸易市场。而这样的生产链，我国目前可能还无法布局。
其次，EUV光刻机组装技术被垄断
众所周知，EUV光刻机是一个全球货，身上的零件可能来自全球各地不同企业和工厂。在这种情况下，EUV光刻机的零件之间就会产生很大的公差。如果没有专业的组装技术，那么在使用过程很有可能会出现各种各样的故障和意外。
但是，专业的组装图纸目前在阿斯麦尔手中，因此我国就算成功拿到或者生产出阿斯麦尔光刻机身上的零件，也没有办法组装起来。
总结
阿斯麦尔近年来在我国的布局，其意图无非是为了能尽可能保住我国市场，但是，就目前来看，阿斯麦尔的意图因为我国突破EUV光刻机核心技术可能就要落空。未来，我们依旧希望我国相关企业或科研机构能够再接再厉，尽早在高端光刻机领域，展现出耀眼的中国之光。
