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在过去二十年时间里，我国信息产业一直处于“缺芯少魂”的局面，这里指的是半导体芯片等硬件设备以及软件系统生态。
之所以出现这样的情况，表面上看是由于我国起步晚，大可以通过高价进口来解决发展所需的问题，而主要原因则是海外市场的严密技术封锁，给我们的发展制造了很大的障碍，逼着我们不得不依赖进口。
尤其是《瓦森纳协定》，这是老美联合其他41国签署的协议，其主要内容就是禁止一切尖端技术设备对华出口。在美国针对华为、中兴等国产头部科技企业而修改芯片规则之后，全球仅荷兰光刻巨头ASML能够生产的中高端光刻设备，也被纳入了出口清单之中。
在系统方面，华为接连创建了鸿蒙、欧拉两大基建系统，西方想要进一步封锁已经不现实。然而，在芯片方面，光刻机却成了老美遏制我国半导体产业自给自足的一把“利刃”。
虽然ASML能够生产光刻设备且倾向于对华出口，可其产线上却糅合了大量的他国技术设备，比如美国的光源技术产品，在技术占比上超过了20%，这导致ASML不得不遵循所谓的“出口管制规则”而无法自由出货。
鉴于这样的情况，我们开始奋发图强、自主研发国产光刻机，在中科院、清北高校等科研机构，以及上海微电子等光刻厂商的共同努力下，国内光刻市场在近两年不断传出着破冰的好消息，展现出了一片生机勃勃的景象。
然而，没想到的是，这却触动了ASML的“敏感神经”，其首席执行官Peter多次，表示会加大在中国市场的投资，想办法促进光刻设备的出口。另外Peter还强调，截止目前，ASML方面对华出口的光刻设备已累计达到了1000台！
很显然，ASML这是在传达对中国市场的好感，是因为它担心未来被排出在国内市场之外，或者是在我们的光刻设备实现国产化之后，物美价廉的中国产品冲击到它的市场地位。
果然，在近日的上海进博会上，ASML中国区总裁沈波就带来了一项重磅消息，ASML方面正式表态，除了EUV设备之外，其他产品均可对华自由出货。这其中包括了可用于14nm、乃至7nm芯片制造的DUV光刻机。
在国产代工企业大举投建芯片厂之时，ASML可自由出货DUV设备固然是个好消息，但倘若以为它单纯是为了助力国产芯片产业的发展就太天真了。
要知道，上海微电子在今年不仅发布了高精度封测光刻机，而且其自研的可用于芯片制造前道工序的浸没式光刻设备也已完成技术开发，该193nm波长浸没式光刻设备在性能对比上丝毫不弱于DUV设备，通过多重曝光技术，能够实现7nm及以上制程节点芯片的制造。
值得强调的是，为了研发该国产光刻设备，上海微电子以及其他五家国产企业苦心钻研了四年之久。这五家企业分别是北京科益虹源、北京国望光科、长春国科、浙江启尔以及北京华卓精科。
这足以看出国内光刻市场现阶段蕴藏的活力。根据此前传出的消息可知，该国产光刻设备将在年底或者明年正式落地。
一旦国产光刻机实现了量产并形成了市场规模，那么ASML或许就没机会再卖给我们了，这或许就是它力争DUV设备自由对华出货的主要原因。
对此，中国工程院士倪光南教授表示，对于海外态度的转变，不得不防！核心技术是买不来、换不来、求不来的，在国内芯片市场加速形成良性内需循环的关键时刻，我们必须要放弃幻想，身体力行的完成国产化替代，从而彻底摆脱“卡脖子”。
事实也的确如此，DUV光刻设备的自由出货既是“蜜糖”也是“砒霜”，它或许可以促进国产芯片的发展，但也会在很大程度上遏制国产光刻企业的生产空间，甚至是打击到国产自研的积极性。
因此，我们一定要酌量购买，必须给国产光刻设备留有足够的市场空间，同时也不能放缓研发的脚步，只有这样，我们在光刻领域才能稳步前进。
